脈衝鐳射沉積（Pulsed Laser Deposition，PLD），是一種利用鐳射對物體進行轟擊，然後將轟擊出來的物質沉澱在不同的襯底上，得到沉澱或者薄膜的一種手段。通常的PLD系統主要由真空腔和脈衝雷射器等設備組成，將鐳射通過合適的透鏡聚焦到真空腔內的靶材上，靶材材料不同，選用的鐳射波長不同，常用波長有266nm、355nm、248nm等等，有些材料也會用到532nm 和1064nm鐳射。某客戶採用智慧化Nimma-HG-Pro脈衝固體雷射器自主研發的三光束脈衝鐳射共沉積系統，用於大尺寸超導薄膜的製